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上海翰軍實驗設備有限公司
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一、概述：這款配置的高真空CVD系統集快速紅外加熱爐，2通道氣路系統和真空系統組成
一、概述：
這款配置的高真空CVD系統集快速紅外加熱爐，2通道氣路系統和真空系統組成。真空系統采用中科科儀FJ-110機組。控制電路選用模糊PID程控技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。本套系統用于CVD退火，也可以應用于于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。
二、主要技術參數
快速紅外加熱爐 | 電壓 | AC3800V 50/60Hz |
功率 | 24KW | |
加熱區長 | 400mm | |
使用溫度 | 1100℃ | |
工作溫度 | ≤1000℃ | |
升溫速率： | ≤300℃/min | |
溫控系統 | PID自動控制晶閘管（可控硅）輸出功率， 30段可編程控制器， | |
恒溫精度 | ±5 | |
石英管 | Φ50/60/80100*1400mm | |
兩路質量流量控制系統 | 電壓 | 185~245V/50Hz |
輸出功率： | 18W | |
流量計標準量程 | 300SCCM | |
工作溫度： | 5~45 oC | |
工作壓差： | 0.1～0.5 MPa | |
壓力： | 3Mpa | |
準確度： | ±1.5% FS | |
真空系統 | 產品型號：F-100/150型渦輪分子泵 廠家： 中科科儀 技術參數： 抽速速率(l/s)：150 進氣口法蘭：LF100(ISO-K) 排氣口法蘭:KF25 壓縮比：N2: 108 H2：5X10102 建議啟動壓強：＜100pa 額定轉速（rpm）：42300 啟動時間（min）：≤2 冷卻方式：風冷 冷卻溫度（℃）：≤25 安裝方式：水平或者垂直 重量：8kg 2.2干泵： 產品型號：GWSP300 廠家：沈陽紀維， 技術參數： 極限真空度 Pa 2.60 排氣速度 l/s 4.30 m3/h 15.5 噪音值 dB(A) ≦60 漏率（排氣口和氣鎮閥關） Pa·m3/s 1×10-8 進/排氣壓力 MPa 0.1 /0.13 進/排氣口尺寸 KF25/KF16 工作環境溫度 ℃ 5～40 冷卻方式 風冷 單相電機 功率 0.55 電壓 V 200～230V, 50Hz 轉速 rpm 1425(50Hz)， 接頭形式 國標、 轉速 rpm 1425(50Hz)， 外形尺寸 ： 495×305×355 凈重 單相 kg 27 其他 帶氣鎮閥 電阻真空計： 測量范圍：（1.0x105~1.0x10-1)pa 配備規管：ZJ-52T（可選擇接口） 測量路數：1路 顯示方式：LED數碼顯示或雙顯（可選） 電源：AC220V±10%50HZ 攻耗：20W 重量：≤1KG 機箱尺寸：96*96 控制路數：2路（可擴展） 控制范圍：（1.0x105~1.0x10-1)pa 控制方式：點控或區域控制 控制點負載能力：AC220V/3A無感負載 測量精度：±30% 響應時間：<1S 模擬輸出：（0~5）V；（4~20）mA（選配） 通訊接口：RS-232；RS-485（選配） | |
法蘭及支撐 | 304不銹鋼快速水冷法蘭，長期水冷無腐蝕一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷可調節的法蘭支撐，平衡爐管的受力支撐 包含進氣、出氣、真空抽口針閥，KF密封圈及卡箍組合，4個密封硅膠圈等 | |
可選配件 | 混氣系統,中、高真空系統，各種剛玉坩堝，石英管，計算機控制軟件，無紙記錄儀，氧含量分析儀，冷卻水循環機等。 | |
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