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KRI 離子源用于離子束拋光機
閱讀：257 發布時間：2024-1-2
離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對象的超高精度非接觸式修形及拋光, 精度可達亞納米級, 被譽為終拋光. 離子束拋光機的最核心部件是可聚焦的高能量離子源. 上海伯東某客戶為專業精密光學元器件設備制造商, 主要產品為離子束拋光機、磁流變拋光機等, 提供超精密光學工藝制造研發服務, 是一家超精密光學元器件解決方案提供商. 經推薦, 該客戶采用上海伯東美國 KRi 直流電源式考夫曼離子源 KDC 系列成功應用于光學鍍膜離子束拋光機.
KRI 離子源用于離子束拋光機:
應用方向：非接觸式亞納米離子束表面修形
應用領域：半導體/精密光學
產品類別：高精密光學器件
加工指標：
1. 加工尺寸能力 5-1200mm ；
2. 采用非接觸式加工, 無邊緣效應, 不產生亞表面損傷；
3. 亞納米加工精度, 可實現面型 RMS<3nm 高精度拋光能力；
4. 加工光學元器件形狀有：平面、球面、非球面、自由曲面、離軸非球面等；
5. 加工光學元器件材料有：石英玻璃、微晶、超低膨脹玻璃、KDP 晶體、藍寶石、硅、碳化硅、紅外材料等.
美國 KRI 考夫曼公司新升級 Gridded KDC 系列離子源, 新的特性包含自對準離子光學和開關式電源控制. 考夫曼離子源 KDC 系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應用. 考夫曼離子源通過控制離子的強度及濃度, 使拋光刻蝕速率更快更準確, 拋光后的基材上獲得更平坦, 均勻性更高的薄膜表面. KDC 考夫曼離子源內置型的設計更符合離子源在離子拋光機內部的移動運行.
上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 系列根據客戶離子拋光工藝條件提供如下型號:
型號 | KDC 10 | KDC 40 | KDC 75 | KDC 100 | KDC 160 |
Discharge 陽極 | DC 電流 | DC 電流 | DC 電流 | DC 電流 | DC 電流 |
離子束流 | >10 mA | >100 mA | >250 mA | >400 mA | >650 mA |
離子動能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
柵極直徑 | 1 cm Φ | 4 cm Φ | 7.5 cm Φ | 12 cm Φ | 16 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
流量 | 1-5 sccm | 2-10 sccm | 2-15 sccm | 2-20 sccm | 2-30 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型壓力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
長度 | 11.5 cm | 17.1 cm | 20.1 cm | 23.5 cm | 25.2 cm |
直徑 | 4 cm | 9 cm | 14 cm | 19.4 cm | 23.2 cm |
中和器 | 燈絲 | ||||
上海伯東同時提供真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域.
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上海伯東: 羅小姐