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AI芯片大戰，芯片超純水設備扮演什么角色?
閱讀：279 發布時間：2020-4-7近年來，我們看到人工智能(AI)和機器學習(ML)的應用擴展到更廣泛的計算機和移動應用領域。現在，就像低成本圖形處理單元(GPU)的普及推動了深度學習革命一樣，硬件設計被預測為下一個重大發展提供基礎。
隨著大型企業，初創企業和中小型企業等公司爭相建立支持AI生態系統的基本AI加速器技術。2018年，AI芯片市場整體價值66.4億美元，預計未來幾年將大幅增長，到2025年將達到911.9億美元，復合年增長率為45.2%。因此，可以理解的是，許多公司都在致力于開發AI芯片。
集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
萊特萊德芯片超純水設備系統根據半導體芯片用水要求，采用當今*的全自動電去離子超純水處理技術，前置預處理配套使用加反滲透處理，有效去除水中各種鹽份及雜質，進一步提升水質，超純水水質*符合芯片生產用水要求。
芯片超純水設備性能優勢數不勝數，其能夠連續穩定的制備品質優良的超純水，不會因為樹脂再生而停止運行，設備結構設計相對靠緊，所以其占地非常小，可以為企業節省很多空間，超純水設備在出廠前均需進行裝置調試，所以設備故障幾率較小，日常保養、維修等操作都非常簡單。芯片超純水設備內部還安置有反滲透預脫鹽技術，再次從根本上行保障了水處理設備的出水水質，與此同時，超純水制取設備廢水產出量少，不會對環境造成污染，有非常高的環境效益、經濟效益，其發展前景廣闊。
芯片超純水設備出水水質*符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。