hermo Scientific™ Quattro™ 掃描電鏡將成像和分析的全面性能與的環境模式（ESEM）相結合，使得樣品研究得以在自然狀態下進行。
如今，研究型實驗室普遍要求現代的掃描電鏡可以適應多種多樣
的樣品分析需求，希望在獲得出色的圖像質量的同時盡可能簡化
樣品制備過程。Quat t r o 的場發射槍（FEG）確保了優異的分辨
率，通過不同的探測器選項，可以調節不同襯度信息，包括定向背散
射、STEM 和陰極熒光信息。來自多個探測器和探測器分區的圖像可以
同步采集和顯示，使得單次掃描即可獲得各種樣品信息，從而減低束敏
感樣品的束曝光并實現真正的動態實驗。
Quattro 的三種真空模式（高真空、低真空和 ESEM™）使得系統極
具靈活性，可以容納任何 SEM 可用的泛的樣品類型，包括放
氣或者是與真空狀態不相容的樣品。此外，ESEM™可以在現實世界
的條件下對樣品進行原位研究，例如濕/潮濕、熱或反應性的環境。
Quattro 的分析樣品倉可以滿足日益增長的樣品元素信息及晶體結構分
析需求，它同時支持相對的雙能譜（EDS）探測器、共面能譜（EDS）/電子
背散射衍射（EBSD）和平行束波譜（WDS）探測器。無論什么類型的樣
品，在高真空下或與 Quattro 支持的實驗條件相結合，無論樣品導
電、絕緣、潮濕或是在高溫條件下，均可獲得可靠的分析結果。
由于多用戶設施要求大量操作人員都能獲得所有相關數據，同時盡可能
縮短培訓時間，所以易用性是至關重要的。Quattro 的硬件由幫助功
能（用戶向導）支持，不僅可以指導操作者，還可以直接與顯微鏡進行交
互。并且通過“撤消（Undo）"功能，鼓勵新手用戶進行實驗，而專家用戶
可以輕松縮短結果獲取時間。
主要優勢
在自然狀態下對材料進行原位研究：具有環境真空模式（ESEM）的高分辨率場發射掃描電鏡
縮短樣品制備時間：低真空和環境真空技術可針對不導電和/或含水樣品直接成像和分析，樣品表面無荷電累積
在各種操作模式下分析導電和不導電樣品， 同步獲取二次電子像和背散射電子像
安裝原位冷臺、珀爾帖冷臺和熱臺，可在-165°C 到 1400°C 溫度范圍內進行原位分析
的分析性能，樣品倉可同時安裝三個 EDS 探測器，其中兩個 EDS端口分開 180°、 WDS 和共面 EDS/EBSD
針對不導電樣品的分析性能：憑借“壓差真空系統"實現低真空模式下的精確 EDS 和 EBSD 分析
靈活、精確的優中心樣品臺，105°傾斜角度范圍，可觀察樣品
軟件直觀、簡便易用，并配置用戶向導及 Undo（撤銷）功能，操作步驟更少，分析更快速
全新創新選項，包括可伸縮 RGB 陰極熒光（CL）探測器、1100°C 高真空熱臺和 AutoScript（基于 Python 的腳本工具 API）
