國產HK-8100ICP發射光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器，廣泛應用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產品、醫藥衛生、冶金、地質、石油、化工、商檢、環保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業分析檢測，可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析。
國產HK-8100ICP發射光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器，廣泛應用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產品、醫藥衛生、冶金、地質、石油、化工、商檢、環保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業分析檢測，可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析。是集光、機、電、計算機、分析技術于一體的產品，具有測試速度快、測量范圍寬、分析結果準確可靠等特點。
公司生產的HK-2000和HK-8100系列，是我司在傳統北京ICP光譜儀技術的基礎上，吸收國際技術成果研究開發的高精度、高靈敏度的北京ICP光譜儀，具有分析速度快、穩定性高等優勢。由于采用了計算機技術，儀器的智能化、屏幕顯示的圖、文及數據的采集、處理等都達到了目前水平，是諸多行業理想的分析儀器。通過多年的精心努力，我司產品已獲得國內外眾多客戶的信任，尤其是在稀土、釹鐵硼、鎢鉬、鉭鈮、鋯鉿、碲、錫料、硅、有色金屬、飽和氯化鈉溶液、電池材料行業得到廣泛認可，并成功出口俄羅斯、非洲、南美、中南亞等國家和地區。
一、儀器整機主要性能參數：
1、波長范圍：180-800nm（2400刻線/mm）或180-500nm（3600刻線/mm）
2、分辨率：在180-500nm整個波段內分辨率≤0.006nm
3、波長示值誤差和重復性：波長示值誤差≤0.02nm，重復性≤0.003nm
4、掃描步距：可達0.0004nm
5、精密度：RSD≤1.5%
6、穩定性：RSD≤2.0%
7、檢出限：PPb級
8、分析元素范圍：可對72種金屬元素和部分非金屬元素（如B、P、Si、Se、Te）進行定量和定性分析
9、線性范圍：7個數量級以上。
10、分析速度：每分鐘掃描20個元素以上
11、等級證書：國家計量器具形式許可
二、儀器各部件詳細參數：
射頻發生器（RF）
（1）電路類型：電感反饋自激式振蕩電路、同軸電纜輸出、匹配調諧、取功率反饋信號，進行閉環自動控 制
（2）工作頻率：40.68MHz ± 0.05%
（3）頻率穩定性：≤0.05%
（4）輸出功率：800—1500W，自動調整
（5）輸出功率穩定性：≤0.3%
（6）電磁場泄漏射強度：距機身20cm 處，電場強度E：＜2 V / m
進樣裝置
（1）輸出工作線圈：內徑25mm 、3匝
（2）炬管：三同心型，外徑20mm的石英炬管
（3）同軸型噴霧器：外徑6mm
（4）雙筒型霧室：外徑34mm
（5）觀測位置：縱向觀察高低和橫向觀察前后，可通過軟件直觀地調為
（6）氬氣流量計規格和載氣壓力表規格：
1、等離子氣流量計：(100－1000)L/h (1.6－16L/min)
2、輔助氣流量計：(10－100)L/h (0.16－1.66L/min)
3、載氣流量計：(10－100)L/h (0.16－1.66L/min)
4、載氣穩壓閥：(0－0.4Mpa)L/h
5、冷卻水：水溫：21－26℃ 流量＞5L/min 水壓＞0.1Mpa 冷卻水：電阻率＞1MΩ
分光器
（1）光路：Czerny－Turner
（2）焦距：1000mm
（3）光柵規格：離子刻蝕全息光柵；刻線密度3600線/mm，刻線面積：80×110mm
(或刻線密度2400線/mm，刻線面積：80×110mm)
（4）線色散率倒數：0.26nm/mm
（5）分辨率：≤0.007nm（整個波段）
（6）掃描波長范圍： 180-500nm，3600刻線/mm；
180-800nm，2400刻線/mm
（7）掃描步距：0.0004nm
（8）出射、入射狹縫：20μm×25μm
（9）反射鏡規格：（78×105×16）mm
（10）透鏡：φ30，1:1成像
（11）反射鏡規格：凹型
（12）分光器恒溫裝置：34℃±0.5℃
測光裝置
（1）光電倍增管規格：日本高效R212UH或R928
（2）光電倍增管負高壓：200-1000V，自動調節，穩定性＜0.01%
（3）光電倍增管電流測量范圍：10-4~10-9A
（4）信號采集為V/F交換：1mV對應100Hz
（5）采樣電路：使用國外高精密度運算放大器，使儀器的靈敏度和精確度大大提高
（6）儀器數據采集：通過串口與電腦連接，從而簡化了電路使連接更加便捷
（7）測光方式：單、多元素順序測量
