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上海禹重實業有限公司
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FEI Talos F200系列 場發射透射電子顯微鏡融合了出色的高分辨率掃描/透射電子顯微鏡 （STEM） 和 TEM 成像功能與的能量色散 X 射線光譜儀 （EDS） 信號檢測功能及基于成分測繪的三維化學表征功能。Talos F200X 可在所有維度 （1D-4D） 下實現Z快速、Z精確的 EDS 分析，以及且支持快速導航的動態顯微鏡 HRTEM 成像。
FEI Talos F200系列 場發射透射電子顯微鏡融合了出色的高分辨率掃描/透射電子顯微鏡 (STEM) 和 TEM 成像功能與行業的能量色散 X 射線光譜儀 (EDS) 信號檢測功能及基于成分測繪的三維化學表征功能。Talos F200X 可在所有維度 (1D-4D) 下實現zui快速、zui精確的 EDS 分析，以及且支持快速導航的動態顯微鏡 HRTEM 成像。
FEI Talos F200系列 場發射透射電子顯微鏡可以實現zui快速、zui準確且量化的多維納米材料表征。 FEI Talos F200S 200 kV STEM 融合了快速、多通道、高分辨率 STEM 成像和精確成分分析，可以支持各種動態顯微鏡應用。FEI Talos 的創新功能可提高通量、精度與易用性，非常適于學院、政府和工業研究環境中的高級研究與分析。
是FEI公司新一代場發射低溫透射電鏡，配有場發射電子槍；樣品臺可傾轉zui大角度70度； 恒功率模式的物鏡保證成像的高穩定性；點分辨率可達0.3nm，信息分辨極限可達0.15nm。
基本參數
Talos F200S
總束電流：>150nA
探針電流：1nA@1nm探針（200 kV）
EDS系統：2 SDD無窗設計，shutter保護
能量分辨率：≤136 eV，對Mn-Kalpha和10kcps（輸出）
快速EDS：像素駐留時間低至10 us
Talos F200X
明場X-FEG：1.8×109 A/cm2 srad（@200kV）
總束電流：>50nA
探針電流：2nA@1nm探針（200 kV）；0.4 nA@0.31nm探針
EDS系統：2 SDD無窗設計，shutter保護
能量分辨率：≤136 eV，對Mn-Kalpha和10kcps（輸出）
快速EDS：像素駐留時間低至10 us 除了這些基本特性外，本中心的Talos還裝備：
1 Ceta 4K*4K 相機；
2 用于STEM模式的環形暗場探頭（HAADF）以及BF/DF探頭；
3 Gatan 626冷凍傳輸樣品桿，單傾樣品桿以及三維重構樣品桿；
4 單顆粒技術自動化數據收集系統EPU和電子斷層掃描技術自動化數據收集軟件Xplore3D。
Talos可以滿足冷凍單顆粒技術、冷凍電子斷層掃描技術、STEM電子斷層掃描技術的數據收集需求，如：
1. 進行液氮溫度的冷凍樣品數據收集；
2. 可進行單顆粒樣品數據收集；
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