實驗室膠體磨，實驗室高剪切膠體磨，實驗室管線式高剪切膠體磨，實驗室膠體磨開機轉速9000rpm，經變頻后轉速zui高可到14000rpm，磨頭定轉子間隙在0.2-0.7mm，間隙可調，間隙越小處理效果越好，流量也會相對的變小。設備本身使用了伯格曼的雙端面機械密封，這樣大大延長了設備的使用壽命。磨頭有316L材質、渡碳化鎢鈷、氮化硼、氧化鋯陶瓷、哈氏合金等材質，可根據客戶物料需求選擇磨頭材料。

CM2000/4實驗室膠體磨是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。 CM2000/4實驗室膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4實驗室膠體磨的定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

      實驗室膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。

      公司另外一項*的創新，就是錐體磨CMO2000系列，它的設計使其功能在原有的CM2000的基礎上又進了一步。由于這項創新，CMO2000能夠濕磨和研磨，產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調節，從而可以得到精確的研磨參數。研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。
  

  CM2000/4（LP系列）為實驗室膠體磨的技術參數：功率1.5-2.2KW,轉速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機器產量為 0– 700 升/小時（水），重量35KG,尺寸 （長寬高）（450X250X350）MM，LP使用軸封（PTFE 環），在正常的情況下，一般軸封可以使用3000-4000次。LP不能24小時連續使用，一般zui多可以使用連續半個小時，這要依據料液的溫度和轉速而定。LP也可以通過變換模塊，可以實現多功能多用途，是實驗室中試生產的*選擇。