CMD2000/4氧化鋁研磨分散機
【簡單介紹】
【詳細說明】
氧化鋁研磨分散機,廣東納米分散機,IKN研磨分散機在氧化鋁中的應用
納米三氧化二鋁(又名氧化鋁)粒徑分布均勻,電阻率高,具有良好的絕緣性能,廣泛用于塑料,橡膠,陶瓷,涂料等絕緣性能要求高的領域。
納米氧化鋁用途:.絕緣材料陶瓷粉(納米氧化鋁)VK-L20涂層導,熱絕緣復合材料,高壓引入棒的絕緣體材料,滿足X7R需要的多層陶瓷芯片電容器的絕緣材料
中國氧化鋁企業達40多家,已建和在建產能達4350多萬噸/年,其中處理國內鋁土礦的產能為3250萬噸/年,是世界*大氧化鋁生產國。 但是由于技術問題,我國生產的氧化鋁產品以中低端為主流,價格低廉,生產設備落后,能耗大,利潤不高。特別是納米三氧化二鋁產能不高,產品基本被跨國企業壟斷。
在制備納米氧化鋁粉體過程中,由于其比表面積大,表面能高,容易產生粉末的團聚,破壞材料性能,所以現在將常規微米級氧化鋁研磨成納米級氧化鋁,粉末團聚成了一個難題。上海IKN為應對這種現狀研發的研磨分散機,很好的解決了這個難題。
CMD2000系列研磨分散設備是IKN(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
CMD2000系列研磨分散機的結構(氧化鋁研磨分散機,廣東納米分散機,IKN研磨分散機在氧化鋁中的應用):
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
CMD2000系列研磨分散機的特點(,廣東納米分散機,IKN研磨分散機在氧化鋁中的應用):
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
CMD2000系列設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。 |
1.表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2.處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。
3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。
4.本表的數據因技術改動,定制而不符,正確的參數以提供的實物為準.
研磨分散機和均質機的作用對比:
研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。
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