CMD2000CMD2000*軟膠囊內容物均質分散機
【簡單介紹】
【詳細說明】
CMD2000*軟膠囊內容物均質分散機,*混懸液均質分散機,*軟膠囊內容物研磨均質機,醫藥級混懸液研磨均質機,GMP膠囊混懸液研磨均質機,衛生級研磨均質機,高剪切研磨均質機,高效率研磨均質機,德國研磨均質機
IKN研磨均質機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。
詳細 依肯機械 賈清清
軟膠囊制劑多用于非水溶性、對光敏感、遇濕熱不穩定、易氧化額揮發的藥物。它密封嚴密、用量精確、生物利用度高,藥物的穩定性也得到提升,此外還有掩蓋不良嗅味的作用。實驗證明,口服制劑的生物利用度,以內容物為溶液的軟膠囊,混懸液次之,再次為含顆粒的硬膠囊,zui差為片劑。
近年來,超微粉碎技術逐漸應用到軟膠囊領域,通過研究發現,藥材經過超微化粉碎后,粉末粒徑大小分布均勻,球性度和均質度明顯改善,這些細粉較易混懸在水或者溶劑以及植物油當中,質量較為穩定。另外隨著軟膠囊行業的發展,對于膠囊的內容物的處理,出現的大量的設備,如:膠體磨、均質機、分散機等。這些設備通過對內容物的剪切,從內容物粒徑更加細化,粉末分散更加均勻。而上海IKN應對這種情況,研發出了的設備,改良性膠體磨,該膠體磨結合了高剪切膠體磨和高剪切分散機的特點,將二者一體,形成的設備,我們也將它定義為“研磨分散機”。
上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前設備轉速的4-5倍。
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IKN研磨分散機的應用領域:
- 精細化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹脂乳化、炭墨分散
- 石油化工、潤滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化
- 農藥化肥 、化肥、農藥乳化、農藥助劑、農藥中間體、藥乳油、殺蟲劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復合肥、乳油濕性粉劑
- 生物醫藥、細胞漿化、血清疫苗、蛋白質分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣
- 日用化工、護膚霜、護膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發用品、牙膏、日用香精
- 食品工業、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
- 涂料油墨、內外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤土
CMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到zui大允許量的10%
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