Nikon KrF掃描光刻機NSR-S210D產能達到176wph，對應110nm以下設備的量產

性　能

Resolution 分辨率≦ 110 nm

NA NA 0.82

Exposure light source 曝光光源KrF excimer laser (248 nm wavelength)

Reduction ratio 縮小倍率1:4

Maximum exposure field zui大曝光范圍26 mm × 33 mm

Overlay 重合精度≦ 9 nm

Throughput 產出≧ 176 wafers/hour (76 shots)

KrF掃描光刻機“NSR-S210D"通過裝載取得業績的串聯臺，生產效率比以往機型提高了20%。實現了每小時生產176片300mm晶圓的高產出，更將對準精度提高至9nm以下。以高生產效率、高精度實現110nm以下設備的量產。