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MATTSON二手刻蝕機(jī)ASPENIII，2006年設(shè)備，lightetcher，可對12英寸晶圓進(jìn)行蝕刻工藝處理

二手刻蝕機(jī)MATTSONPARADIGM，PRAsher設(shè)備，雙工作腔室，可對尺寸為12英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理，已拆卸和打包完成，可隨時(shí)發(fā)貨

二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)MATRIX102/105,打包封裝完成，隨時(shí)發(fā)貨

MATRIX303二手刻蝕機(jī),等離子氧化刻蝕系統(tǒng)，可對尺寸為2~6英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理

MATRIXSYSTEM10二手刻蝕機(jī)，反應(yīng)離子刻蝕RIE、Plasmaasher雙模式，可對6-8英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理

二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)MATRIXSYSTEMONE106，1995年設(shè)備，可對4-6英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工

二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨TOKYOOKA/TOKTCE-3822，2011年設(shè)備，可對尺寸為5英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝處理

二手現(xiàn)貨刻蝕機(jī)PVATEPLA/TECHNICS200SERIES，2005年設(shè)備，可對2~6英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理

PVATEPLA/TECHNICS300AUTOLOADPC刻蝕機(jī)

PVATEPLA/TECHNICS660刻蝕機(jī)二手現(xiàn)貨，2008年設(shè)備，僅運(yùn)行16小時(shí)，微波等離子刻蝕設(shè)備

團(tuán)隊(duì)介紹ASML和NIKON光刻機(jī)的翻新改造、安裝調(diào)試及維護(hù)的核心技術(shù)能力

NSR-S622DArF浸沒式掃描儀是通過進(jìn)一步提高已驗(yàn)證的流線平臺的準(zhǔn)確性和生產(chǎn)力，用于20nm以下的高容量多模式應(yīng)用

NSR-S635EArF浸入式光刻機(jī)，集成內(nèi)聯(lián)對準(zhǔn)站(iAS)，用于大容量5nm節(jié)點(diǎn)應(yīng)用程序制造

尼康公司（東京港區(qū)總裁KazuoUshida）發(fā)布了一代尼康A(chǔ)rF浸入式掃描儀NSR-S631E

NikonARF浸入式光刻機(jī)NSR-S630D進(jìn)一步提高了NSR-S622D的精度和生產(chǎn)率，它采用了以高精度和生產(chǎn)率著稱的流線型平臺，適用于10納米范圍內(nèi)的工藝...

NSR-S621D已開發(fā)用于大批量制造22nm工藝節(jié)點(diǎn)（能夠通過進(jìn)一步提高久經(jīng)考驗(yàn)的NSR-S620D的精度和生產(chǎn)率來處理雙圖案*1)

NSR-S320F的平臺在尼康的浸入式掃描儀中得到驗(yàn)證，確保在客戶領(lǐng)域及早實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定運(yùn)行和高生產(chǎn)率

NikonKrF掃描光刻機(jī)NSR-S210D產(chǎn)能達(dá)到176wph

NSR-S609B（分辨率≦55nm），用于大批量生產(chǎn)的ArF浸入式掃描儀，NA1.07（一臺突破NA1.0閾值的掃描儀）2006年，NikonNSR-S609...

NikonKrF光刻機(jī)NSR-S205C于2000年在新加坡生產(chǎn)，分辨率≤120nm