尼康公司（東京港區總裁 Kazuo Ushida）發布了一代尼康 ArF 浸入式掃描儀 NSR-S631E。該光刻系統專為大批量半導體制造中的 7 納米節點工藝而開發。它支持多重圖案* ，并具有經過驗證的Streamlign平臺（也用于的 NSR-S630D）的高精度和出色的生產力。NSR-S631E 可滿足下一代客戶的制造要求，進一步提高覆蓋和產量，這在多重圖案化工藝中至關重要。

NSR-S631E通過使用新型投影鏡頭以及改進的對準系統標記檢測和測量，提供 2.3 nm 或以下的混合匹配覆蓋 (MMO * )。S631E 還可以通過每小時高達 270（96 次）晶圓的生產能力限度地提高晶圓廠的生產力。

主要特征

1.配備Streamlign平臺

• 鳥瞰控制：顯著提高疊加精度的測量系統

  結合用于晶圓載物臺位置測量的編碼器和干涉儀的混合系統，分劃板載物臺位置使用 2D 編碼器進行測量。這使得每個平臺的位置測量不受空氣波動的影響，從而提高了疊加精度。

• 流對齊：可顯著提高吞吐量的測量技術

  通過將現場圖像對準 (FIA) 顯微鏡的數量增加到五個（五眼 FIA）*，可以在更短的時間內執行對準測量。五眼 FIA 可將吞吐量損失降至，即使必須測量多個點（幾乎等于全部鏡頭數量）也是如此。

• Modular 2 (Modular Squared) Structure：模塊化結構，提高可維護性

  分層模塊化結構意味著在客戶現場啟動設備所需的時間更少，并簡化了系統維修。這大大提高了可維護性。

• *五眼 FIA：改進型的 FIA，有 5 個對準顯微鏡，而不是傳統的 1 個。

2. 提高產品性能

S631E 采用新開發的投影鏡頭設計，提供更好的像差校正功能，以確保的成像性能。此外，創新的測量光學系統提高了產品的對準和聚焦精度。